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华光光电申请一种大功率半导体激光器晶圆P面图形化电镀金的方法专九游娱乐利降低电镀后大功率半导体激光器图形化的偏离度改善纵向发散角

发布时间:2024-08-02 02:40:27人气:

  九游娱乐金融界2024年7月28日消息,天眼查知识产权信息显示,山东华光光电子股份有限公司申请一项名为“一种大功率半导体激光器晶圆P面图形化电镀金的方法“,公开号CN3.7,申请日期为2024年4月。

  专利摘要显示,本发明涉及一种大功率半导体激光器晶圆P面图形化电镀金的方法,属于大功率半导体激光器电镀金电极技术领域。本发明大功率激光器的待镀金区域为薄金种子层,非镀金区域为纳米级SiO2绝缘层,代替了较厚的光刻胶绝缘层,从而降低电镀后大功率半导体激光器图形化的偏离度,改善纵向发散角;同时,此方法为全覆盖TiPtAu种子层,无需剥离去除非镀金区上的TiPtAu种子层,在非镀金区上生长纳米级SiO2绝缘层,保证了整个晶圆的导电性一致,镀层均匀性稳定在10%内,有利于大功率半导体激光器的焊线封装。此方法也避免了碱性电镀液中光刻胶的溶解,避免了电镀液的污染和电镀镀层的污染,大大提高了镀层金属良率和电镀液的利用率。





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